1、概述
       半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水，純水主要用作清洗用水 以及用來配制各種溶液、漿料。
       純水水質已經成為影響電子元器件產品質量、生產成品率以及生產成本的重要因素之一，水質的要求也越來越高。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ·cm、15 MΩ·cm、10 MΩ·cm、2 MΩ·cm、0.5 MΩ·cm，以區分不同水質。

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2、電子工業用超純水的制備工藝流程
    電子工業用超純水制備的工藝流程有下列幾種：
 
（1）原水－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－陽床－陰床－混合床－純水箱－純水泵－后置精密過濾器－用水點
 
（2）原水－多介質過濾器－活性炭過濾器――軟水器－原水箱－一級反滲透－中間水箱－二級反滲透－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－后置精密過濾器－用水點
 
（3）原水－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－原水箱－反滲透設備－中間水箱－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－后置精密過濾器－用水點
 
（4）原水－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－原水箱－反滲透設備－中間水箱－EDI裝置－純水箱－純水泵－精制混床－精密過濾器－用水點